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超精密光學技術

主要應用于諸如高端IC制造投影光刻機曝光光學系統等高復雜度、極限精度光學系統的研制,其突出特點是光學元件的全頻段表面形貌制造精度需達到深亞納米量級。國際上僅有Zeiss、Nikon等極少數國際頂級光學公司掌握此類技術。 團隊所研制的國內首套NA0.75ArF曝光光學系統Epolith A075已成功交付用戶,實現了整機曝光分辨率85nm的理想結果(國家科技重大專項02專項核心任務)。 適用:IC 制造裝備、醫用顯微光學、高端投影顯示。

具備計量功能的日盲紫外成像探測技術

可全天時探測高壓電氣設備早期絕緣損傷放電,具有損傷預警與定位功能,適用于高壓絕緣損傷的早期探測與風險預警。 研發團隊連續承擔多個863計劃等國家項目,牽頭完成了日盲紫外輻射標定平臺(溯源中國計量院)、高性能國產日盲紫外面陣探測器和濾光片、全國產日盲紫外成像儀的研制攻關任務,使我國日盲紫外探測技術全面跨入國際先進行列。 適用:發/輸/變/配電網絡、電氣化鐵路/地鐵、高壓科研。