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國科資訊
我國首套全自主知識產權高端光刻機曝光光學系統研制成功
發布時間: 2018-06-08

2018年3月3日,由長春國科精密光學技術有限公司研發團隊承擔的國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”(以下簡稱02專項)核心任務—“高NA浸沒光學系統關鍵技術研究”項目在上海通過了任務正式驗收。

驗收會議由02專項項目實施管理辦公室和專項總體組共同組織召開。02專項咨詢專家委員會主任馬俊如先生任驗收會議專家組組長。科技部重大辦副巡視員/02專項實施管理辦公室副主任邱鋼、02專項實施管理辦公室主任/上海市科學技術委員會副主任干頻、02專項技術總師葉甜春、用戶單位代表、項目承擔單位代表、項目首席科學家、課題負責人等共計四十余位領導、專家參加了本次驗收會議。

驗收會1

任務驗收會現場

驗收專家組認為,研發團隊針對NA0.75光刻機曝光光學系統的研發需求,突破了復雜照明系統研制、投影物鏡光學設計、全頻段深亞納米精度光學加工與鍍膜、深亞納米精度光學元件檢測、亞微米精度機械零件加工與檢測、投影物鏡光機結構/機構設計、投影物鏡系統集成與檢測裝調等系列超精密光學關鍵技術;成功研制了含有非球面光元件NA0.75投影光刻曝光光學系統,并在90nm光刻機整機上獲得了滿足光刻工藝要求85nm極限曝光分辨率的成果;研發團隊成功開展了面向NA1.35照明系統與物鏡系統關鍵技術研究,為浸沒式曝光光學系統研奠定了良好的技術基礎。

楊老師2

項目首席科學家楊懷江研究員匯報項目執行情況

項目研發工作共申請發明專利337項(其中國際發明專利26項),授權156項;形成了一支80后博士/碩士為主超過200人的青年創新團隊;通過國際采購、對外合作研發及自主攻關,建立了具有國際先進水平的高NA照明系統研平臺、物鏡光學系統設計平臺、超高精度光學加工平臺、超高精度保形光學鍍膜平臺、超高精度光學檢測平臺、超高精度機械加工與檢測平臺、物鏡系統光機集成與裝調平臺。

驗收專家組認為,NA0.75投影光刻曝光光學系統的成功研發不僅突破了制約我國高端光刻機發展的核心技術瓶頸,還形成了一支可支撐高端光刻機曝光光學系統持續發展的青年創新團隊;其研發工作全面完成了預定的研究內容,達到了任務合同書規定的技術考核指標要求。驗收專家組一致同意項目通過驗收。

與會各方領導對項目取得的豐碩成果也給予了充分的肯定和祝賀。02專項技術總師葉甜春表示,曝光光學系統的成功研發證明了光刻機這一大國重器是完全可以由國內自主研發的。他希望這支專注、專業的年輕隊伍繼續攀登超精密光學事業上的珠穆朗瑪峰。

段立峰

用戶代表SMEE公司段立峰博士匯報曝光工藝試驗驗證情況

科技部重大辦副巡視員/02專項實施管理辦公室副主任邱鋼表示,光刻機是02專項的標桿,光學系統更是光刻機的標桿,從某種意義上說,國家民口重大專項戰略任務的標桿。該標桿項目為中國未來創新體系的建設,為我面向2035年繼續實施國家科技重大專項或其他國家重大戰略任務做出了非常好的探索和實踐。

02專項咨詢委主任馬俊如先生指出,90nm光刻機曝光光學系統任務的成功完成,證明了我們掌握的是創新的、自主開發的技術,提振民族精神和增強自主創新自信心具有重要意義,為面向28nm光刻機以及更高水平的光刻機曝光光學系統的研制和生產奠定了非常堅實的技術、裝備和團隊基礎,項目形成的團隊、培養的人才和突破高端技術是國家的寶貴財富。他預祝團隊在新的任務中創造新的輝煌。

項目首席科學家/公司總經理楊懷江研究員代表項目研發團隊對各級領導、各位專家、項目承擔單位整機單位的支持、指導與幫助表示真誠的感謝。楊懷江研究員表示,項目的完成僅是攀登超精密光學事業高峰、實現我國高端光刻機自主研發和產業化過程中的一個中間節點,團隊將繼續攻堅克難,全力以赴,不負國家、民族的重托,為我國高端光刻曝光光學系統產業化的重大戰略目標的實現做出貢獻。

馬俊如

02專項咨詢委主任馬俊如先生講話

會議要求,研發團隊要認真面對在企業平臺上開展工作的新挑戰,認真總結前期成功的研發經驗,積極創建面向市場的產業化研發與生產能力,全力做好28nm節點ArFi光刻曝光光學系統研制、110nm節點KrF曝光光學系統產品的批量化生產任務,為我國建設具有國際競爭力的高端精密光學企業、實現我國高端光刻曝光光學系統的產業化奠定基礎。