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國科資訊
02專項“高NA浸沒光學系統關鍵技術研究”項目順利通過專項任務內部驗收
發布時間: 2018-01-02

2017年12月23日,國家科技重大專項“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”(以下簡稱02專項)實施管理辦公室在長春國科精密光學技術有限公司組織召開了“高NA浸沒光學系統關鍵技術研究”項目的專項內部任務驗收會。

“高NA浸沒光學系統關鍵技術研究”項目是02專項核心任務光刻機項目群的核心攻關項目,也是難度、復雜度最高的項目之一。該項目以浸沒式光刻機應用為目標,開展高NA浸沒式曝光光學系統關鍵技術研究,并研制一套面向90nm節點的NA0.75 ArF光刻曝光光學系統工程樣機,從而為未來高NA浸沒式光刻曝光光學系統的研發奠定技術、裝備與人才基礎。

該項目于2009年7月正式啟動,由中國科學院長春光學精密機械與物理研究所、中國科學院上海光學精密機械研究所、中國科學院光電研究院等三家國內技術優勢單位聯合承擔。

(項目驗收會現場)

(專家組現場考察)

本次專項任務驗收會議專家組由9名委員組成,02專項咨詢專家委員會主任/國家外專局原局長馬俊如擔任專家組組長。國家科技部原副部長/02專項光刻機工程指揮部曹健林總指揮、02專項技術總師葉甜春所長、02專項實施管理辦公室顧瑾栩處長、中科院重大任務局信息海洋處李才興處長、長春光機所賈平所長、上海光機所陳衛標副所長、中科院光電研究院王宇院長、整機單位上海微電子裝備(集團)股份有限公司的用戶代表、項目/課題負責人及主要研發骨干等共計四十余位領導、專家參加了本次驗收會議。

(項目首席科學家楊懷江研究員做項目匯報)

(專家組認真聽取項目匯報)

在組長馬俊如先生的主持下,驗收專家組認真聽取了項目首席科學家楊懷江研究員及課題負責人黃惠杰研究員、隋永新研究員、苗二龍研究員等關于項目及課題任務完成情況的匯報,02專項特聘專家/項目測試專家組組長馬振宇先生的現場測試報告,以及用戶單位上海微電子裝備(集團)股份有限公司技術副總監段立峰博士的NA0.75光刻機曝光光學系統工程樣機測試驗證報告,審閱了任務驗收資料并進行了現場考察和質詢討論。

在項目匯報報告中,首席科學家楊懷江研究員凝練了研發工作所取得的主要成果為,(1)通過引入系統工程理念,建立了面向高復雜度超精密光學系統工程研發的矩陣式組織架構與任務運行模式;(2)全面突破了復雜照明系統設計、照明光瞳整形、照明光場均勻化及校正、深紫外激光脈沖監測、超精密光學系統協同設計、超精密光學元件制造與檢測、超精密機械制造與檢測、超高精度物鏡結構/機構設計、集成與裝調等關鍵技術;(3)研制了含非球面光學元件的NA0.75光刻投影物鏡系統及照明系統,經整機曝光工藝驗證測試獲得了優于85nm光刻分辨率的優異結果,突破了制約我國高端光刻機發展的核心技術瓶頸,填補了國內空白,為我國高端光刻機發展的重要里程碑;(4)在NA1.35浸沒式光刻曝光光學系統光學設計、偏振照明模式產生、照明光瞳偏振參數檢測、折反式物鏡典型光學元件制造技術驗證、曝光光學系統產業化發展等方面的研究工作滿足任務合同驗收要求。

圍繞本項研發任務,研發團隊累計申請了發明專利337項(其中國際發明專利26項),授權156項,軟件著作權1項;建立了高NA照明系統研發平臺、超精密光學系統協同設計平臺、超精密光學元件制造平臺、超精密光學元件檢測平臺、物鏡系統光機裝調平臺;培養了一支以80后優秀碩士/博士為主體超過200人的超精密光學工程專業研發團隊,其中曝光光學系統研發核心骨干人員已于2017年轉入長春國科精密光學技術有限公司,后續研發工作全部轉入企業化運行。

會議專家組一致認為,該項目圓滿完成了任務合同書規定的各項研究工作,取得的研究成果達到了任務合同書規定的考核要求和考核指標,為后續浸沒曝光系統研制和產業化打下了堅實的技術、裝備及人才基礎?;嵋樽易橐恢巒飧孟钅客üㄏ釗撾衲誆墾槭?。

會議認為,該項目通過了專項內部任務驗收,標志著我國已具備了自主研制超精密光學系統的技術能力,表明我國高端光刻機研制已初步形成了一個完整的研發技術體系。

會議要求,轉制后的研發團隊要認真面對在企業平臺上開展工作的新挑戰,應認真總結前期成功研發經驗,積極創建面向市場的產業化研發與生產能力,全力做好28nm節點ArFi光刻機曝光光學系統研制、110nm節點KrF曝光光學系統產品批量化生產任務,為我國建設具有國際競爭力的高端精密光學企業奠定基礎。

該項目將在近期由02專項實施管理辦公室組織專項正式驗收。