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國科資訊
國科精密:中國首套高端光刻機曝光系統隆重亮相IC CHINA 2017
發布時間: 2017-11-10

        2017年10月25日,第十五屆中國國際半導體博覽會暨高峰論壇(IC CHINA 2017)在上海新國際博覽中心如期盛大開幕。在為期三天的展會中,長春國科精密光學技術有限公司以“中國高端精密光學產業的開拓者和引領者”為主題重彩登場,展出了Epolith A075型ArF光刻機曝光光學系統,贏得了與會觀眾的一致贊嘆。

        Epolith A075是我國首臺全自主知識產權的90nm節點ArF光刻機曝光光學系統,其研發成功代表我國在高端光刻機曝光光學系統領域成功打破國外技術壟斷,標志著我國超精密光學事業實現了從無到有的歷史性跨越,書寫了中國高端制造的新篇章。

       25日上午,公司總經理楊懷江、副總經理黃惠杰受邀出席展會開幕式??皇澆崾?,科技部原副部長曹健林、工業和信息化部電子信息司司長刁石京、上海市經濟和信息化委員會副主任黃甌、中國半導體行業協會理事長周子學、國家集成電路產業投資基金股份有限公司總裁丁文武、中國電子信息產業集團有限公司副總經理陳旭、上海市浦東新區科技和經濟委員會高新技術產業化處長孔令毅、02專項總師葉甜春以及專項總體組其他專家蒞臨公司展位參觀指導。公司總經理兼90nm ArF光刻機曝光光學系統首席科學家楊懷江博士向各位領導及專家詳細介紹了Epolith A075及公司其它主要產品和技術,同時匯報了團隊公司化運轉以來取得的成果和業績。各位領導和專家對國科精密的發展給予了充分肯定,并對公司在2017年取得里程碑式的跨越表示祝賀。

       25日下午,國科精密邀請科技部原副部長、02專項光刻機工程指揮部總指揮曹健林在IC CHINA  2017高峰論壇上發表了“九年風云集一鏡——中國首套高端光刻機曝光光學系統研發歷程回顧”的主題演講。

       曹健林稱,90nm節點光刻機曝光光學系統的研發引入了系統工程思想,構建了面向超高精度復雜產品研發的集成化產品開發策略,建立了綜合設計、加工、鍍膜、裝配、測試、裝調全工藝過程的像質預測模型,研發過程嚴格按照里程碑節點進行控制與設計,于2017年7月的首次曝光實驗中即獲成功,曹健林向各界特別說明,90nm節點光刻機曝光光學系統已于10月24日通過了02專項組織的整機環境下的驗收測試,其最終曝光實測分辨率達到了85nm的理想結果。

       但是,曹健林也指出,國內半導體行業的關鍵材料與裝備研發仍處于發展階段,希望未來我國高端光刻機自主研發能再接再厲,繼續攻堅克難,完成后續的28nm節點任務,為我國建立自主極大規模集成電路制造產業貢獻核心裝備。


        26日下午,公司機械工程部經理倪明陽參加了中國集成電路制造產業鏈專項研討會,并做了題為“超精密光學系統研制中的系統工程問題——NA0.75光刻投影物鏡研制進程”的主題報告。 業內同仁對報告中展示的超精密光學前沿技術與相應的研發邏輯給予了高度的認可與贊譽。

        九年磨一鏡,風雨見昆侖!國科精密人已向國家交出了一份令人滿意的答卷!但我們同樣認識到,目前我們仍然與國外先進水平存在較大的差距。山高水長,任重道遠。國科精密人將再接再厲,勇于擔當,堅決完成中國高端精密光學產業的歷史使命。